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半導体技術ロードマップ専門委員会
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年度報告書
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半導体技術ロードマップ2012年版
STRJ ワークショップ 2012 プログラム
International Roadmap Committee (IRC) 「ITRS 2012 改訂版の概要」
石内 秀美 (東芝)
メトロロジWG「半導体ウエーハ計測技術の最新動向」
山崎 裕一郎 (東芝)
歩留向上WG「歩留向上活動報告〜ウェハ処理プロセスのロードマップへ」
白水 好美 (ルネサスエレクトロニクス)
設計WG「Consumer Portable SOCモデルの見直しと今後の取り組み」
中山 勝敏 (ルネサスエレクトロニクス)
テストWG「テストの複雑性への新たな挑戦」
安藏 顕一 (東芝)
Front-End Processes(FEP)WG「新構造・新材料の導入によるFEP技術の革新」
水島 一郎 (東芝)
Process - Integration and Devices Structures(PIDS)WG「WG6 (PIDS及びRF&AMS)の活動報告
若林 整 (東京工業大学)
特別講演1「フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術の展望」
荒川 泰彦 氏(東京大学 ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構長)
特別講演2「抵抗変化型不揮発デバイスで低電圧化限界に挑む」
住広 直孝 氏(超低電圧デバイス技術研究組合)
Emerging Research Devices(ERD)WG「エマージング・リサーチ・デバイスの研究開発動向」
木下 敦寛 (東芝)
Emerging Research Materials(ERM)WG「新材料インテグレーションにおける挑戦的課題」
秋永 広幸 (産業技術総合研究所)
MEMS WG「ITRS_MEMS内容概要と技術動向」
古賀 章浩 (東芝)
リソグラフィWG「EUVは間に合うか?それともトリプルパターニングか?−リソグラフィー技術の最新動向−」
千々松 達夫 (富士通セミコンダクター)
配線WG「STRJ-WG4(配線)活動報告 Cu配線の微細化限界とブレークスルー技術」
磯林 厚伸 (東芝)
実装WG「低消費電力・高速デバイスの普及を支えるパッケージ開発」
中島 宏文 (ルネサスエレクトロニクス)