一方、回路パターンを焼き付ける技術であるリソグラフィも進化しています。高解像度を得るために、高NA、短波長の光源を求め続けて来ています。 476nmのg-線に始まり、i-線、エキシマレーザー（KrF、ArF)と推移し、現在は液浸技術などを併用した超高解像度技術を使っています。 今後、EUV技術の実用化が大きなポイントになります。
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