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年度報告書
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半導体技術ロードマップ2010年版
STRJワークショップでの講演スライドがご覧になれます。
International Roadmap Committee (IRC) ITRS 2010の概要
石内 秀美 (STRJ委員長: 東芝)
テストWG「LSI多様化に対するテストの更なる挑戦〜品質とコストの両立を目指して〜」
小林 拓也 (WG2:パナソニック)
実装WG「世界の実装技術/日本の実装技術」
中島 宏文 (WG7:ルネサスエレクトロニクス)
設計WG「機能検証の解決策の深耕 〜SOC機能検証技術の進展と今後の取り組み〜」
松崎 正己 (WG1:富士通セミコンダクター)
メトロロジWG「計測TWG活動報告」
河村 栄一 (WG14:富士通セミコンダクター)
特別講演「電界効果によるグラフェンの電気伝導変調」
鳥海 明氏 (東京大学)
特別講演「グラフェン横配線とカーボンナノチューブ縦配線:材料技術の進展」
粟野 祐二氏 (慶應大学)
Emerging Research Devices(ERD)WG
「More-than-Moore, Beyond CMOSの現状と動向」
木下 敦寛 (WG12:東芝)
Emerging Research Materials(ERM)WG
「ERMの挑戦的課題〜ERMで何が出来るのか?」
秋永 広幸 (WG13:産業技術総合研究所)
配線WG「STRJ-WG4(配線)活動報告〜微細化の深耕と3次元集積化への展開〜」
中村 友二 (WG4:富士通セミコンダクター)
Front-End Processes(FEP)WG 「今後のFEP技術」
北島 洋 (WG3:ルネサスエレクトロニクス)
Process-Integration and Device Structures(PIDS)WG
「ロジックおよびメモリデバイスのスケーリングトレンド
〜トレンドが変化するローパワーロジック、加速するメモリ〜」
松尾 一郎 (WG6:パナソニック)
リソグラフィWG「NGLの現状と課題」
内山 貴之 (WG5:ルネサスエレクトロニクス)