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年度報告書
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半導体技術ロードマップ2009年版
STRJワークショップでの講演スライドがご覧になれます。
International Roadmap Committee (IRC) ITRS 2009の概要
石内 秀美 (STRJ委員長: 東芝)
ES&H WG 「ITRS2009 ESHの概要」
大越 隆之(WG9リーダー:NECエレクトロニクス)
FI WG「FI/TWG活動の歴史と意義、−ムダ削減による生産性向上に向けて−」
本間 三智夫 (WG8:NECエレクトロニクス)
歩留向上WG「Non visual defect & contaminationへの挑戦」
津金 賢(WG11:日立製作所)
モデリング/シミュレーションWG「ITRS 2009年版のモデリング&シミュレーションの概要」
佐藤 成生(WG10:FML)
メトロロジーWG「3D計測の現状と課題&故障解析SWGの活動状況報告」
河村 栄一(WG14:FML)
特別講演「スピン流とスピントロニクス」
高梨 弘毅(東北大学)
Emerging Research Devices(ERD)WG「Emerging Research Device (ERD) WG −Beyond CMOS候補の位置付けと研究動向−」
平本 俊郎(WG12:東京大学)
Emerging Research Materials(ERM)WG「新探究材料〜応用別にみたERMの可能性」
秋永 広幸(WG13:産業総合研究所)
設計 WG「検証課題の深耕 −大規模化に向けての検証阻害要因−」
松崎 正己(WG1:FML)
テスト WG「LSI多様化へのテストのあくなき挑戦 〜品質とコストのバランスを目指して〜」
佐藤 康夫(WG2:九州工業大学)
実装WG「More than Mooreに辿る道 −Packaging Integration−」
中島 宏文(WG7:NECエレクトロニクス)
Process-Integration andDevice Structures(PIDS)WG「ロジック、及び、メモリデバイスのスケーリングトレンド 〜ロジックデバイススケーリングの鈍化とメモリデバイススケーリングの加速」
尾田 秀一(WG6:ルネサステクノロジ)
リソグラフィWG「光延命とEUVの現状」
内山 貴之(WG5:NECエレクトロニクス)
Front-End Processes(FEP)WG「FEP技術動向とITRS2009改訂」
北島 洋(WG3:NECエレクトロニクス)
配線WG「〜さらなる配線微細化の実現に向けて〜」
廣井 政幸(WG4:NECエレクトロニクス)